詳細介紹
產品介紹
1. 多用于實驗室內,對試驗對象等進行加熱。
2. 采用二硅化鉬發(fā)熱體,垂直安裝在爐腔兩側,更換方便。
3. 長時間使用溫度1600℃,溫度1700℃。
4. 采用分體結構,高溫爐與控制器獨立放置。
5. 獨特的爐腔構筑技術 ,高溫長時間使用不塌陷。
6. 溫度控制系統(tǒng)采用嵌入式一體化觸摸屏HMI,具有PID參數自整定功能。
7. 升溫速率5-15℃/min,可任意設定升溫過程,自動控制。同時具有手動控制功能,任意調整升溫速度與目標溫度。
8. 預留計算機通訊RS232接口,通過計算機實現(xiàn)遠程控制,并記錄數據及升溫曲線。
9. 采用可控硅移相觸發(fā)控制,變壓器調壓。
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